蕭楚穎​ (Jason Hsiao​)
產品經理
愛德華先進科技股份有限公司
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​學歷
  • 崑山科技大學 電機工程學系
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經歷
  • 2017年 - 現在 : 愛德華銷售與業務發展
  • 2016 - 2017年 : Micro-LED開發與研究
  • 2009 - 2016年 : Vertical LED開發展與研究
​講題: 現址式製程氣體除塵處理設備之解決方案
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演講摘要
  • 半導體先進製程產出之副產物對空氣污染為現行之一大課題，而固態副產物(粉塵)之解決處理更是一大挑戰。
  • 於現有之LOCAL SCRUBBER(現址式處理設備)針對粉塵微粒之處理能力有限，特別是粒徑<2.5um。
  • 針對HVM量產廠之LOCAL SCRUBBER提出之解決方案時，亦需考量到不影響製程設備, 且不額外增加現址處理設備之占地面積。
  • “Atomizing Spray”(二流體噴霧 或 空氣霧化噴嘴)可簡易安裝使用於現有之LOCAL SCRUBBER，且為不增加設備之體面積之己決方案之一。
  • Atomizing Spray其原理為”以特殊噴嘴並供給一定量之液體和高壓空氣下”所產生細微的液體噴霧，而此細微之水氣有助於提升水氣與細微之粒子碰撞&凝結，進而提升去除懸浮微粒之處理效率。
  • 該方案已經工研院ITRI和交大協會驗證(TSP去除效率改善>35%)，目前也與tsmc共同執行持續改善CIP, 參數優化後可提升至>55%。